「EdgeTech+ West 2026」
展示会レポート

展示会

出展概要

2026年7月23日(木)~24日(金)にグランフロント大阪にて開催された「EdgeTech+ West 2026」に出展しました。

当社ブースでは最新のArm純正開発環境、RAMモニタツールEVRICA、AI生成コードリスクを可視化する新製品CodeReliefをご紹介しました。その他に農機・建機・航空宇宙でも活用できるソリューションや光学設計の手戻りを防ぐ外観検査シミュレーションなどを展示しました。

出展内容


Arm®マイコンを採用されるお客様へ、最新開発ソリューションをご提案

最新のArm純正開発環境『Keil® MDK Version6』と、RAMモニタツール"EVRICA"のデモを展示しました。EVRICAでは、RAMの変数モニタだけではなく、タスク状態などのOS資源表示を行い、OS搭載製品を効果的にデバッグする最新のデバッグ手法をデモを用いてご紹介しました。

AI生成コードの隠れたリスクを可視化する、新製品CodeRelief

サイバーセキュリティ対策が急務となるソフト開発に向け、静的解析ツール「CodeRelief」をご紹介しました。MISRAやCERT C等の規約遵守はもちろん、脆弱性の早期発見により手戻り工数を大幅削減。確かな技術力をベースに、システムの安全性と開発効率の向上に寄与しています。

農機・建機・航空宇宙でも活用できるソリューション

自動車業界で培った自動運転・電動化を中心としたソリューションを、ミッションクリティカルが求められるOHV(Off-Highway Vehicle=非舗装道路で使用する車両)や航空宇宙産業のお客様にご提案しました。本パネルでは設計から製造、更にフィールドでも活用頂けるソリューションを紹介しました。

外観検査:光学設計における試行錯誤の解消。シミュレータの活用で手戻りゼロへ。

外観検査でのカメラ・レンズ・照明の最適な組合せや設置位置をシミュレータで算出し、ロボットにて自動撮像テストをしました。従来の手作業での試行錯誤による多くの時間がかかっていた光学設計作業を大幅に削減し、生産ライン立ち上げの期間短縮と品質向上を実現しました。

 

PANEL GALLERY
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